真空鍍膜技術(shù)是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，整個(gè)鍍膜過(guò)程是在真空鍍膜機(jī)的真空室內(nèi)完成，在真空室內(nèi)材料的原理從加熱源離析出來(lái)打倒被鍍物理的表面，此項(xiàng)技術(shù)最初是應(yīng)用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海中望遠(yuǎn)鏡鏡片等，之后延伸到其他的功能鍍膜，如手表外殼鍍仿金色，機(jī)械刀具鍍膜等等。
      在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般來(lái)說(shuō)真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜的定義指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面，屬于物理氣相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧ぃ收婵斟兡ひ卜Q(chēng)真空金屬化。真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其是一項(xiàng)極具潛力的技術(shù)。總體來(lái)說(shuō)，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。

CCZK-EL電阻蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)

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